申请号：202122559415.0，

申请人：陈迪，赵云，等.

专利摘要：本实用新型公开了一种原位超清洁PLD电化学表征系统，属于薄膜制备与表征领域。所述系统为在脉冲激光沉积（PLD）腔室中集成电化学工作站，电化学工作站的电信号通过PLD腔室中的引线法兰施加到样品的对电极和工作电极上；激光溅射PLD腔室底部的靶材来沉积薄膜，采用反射高能电子衍射仪（RHEED）分析薄膜生长过程中的表面结构；采用气体质量流量计控制进入腔室的气体流量，采用气体微漏阀控制气体的湿度；PLD腔室连接转移样品用的真空手套箱。采用本实用新型能够在制备完样品后无需转移样品，就能原位的进行不同偏压和不同气氛的电化学性能测试，提高样品地洁净度以及测试的精度和效率。